當前標簽：雙室磁控濺射
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設備用途：JGP-560型雙室磁控濺射系統用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。設備組成：主要由主濺射真空室、磁控濺射靶、基
