濺射鍍膜過程是什么？

2020-07-21 17:34:29

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鍍膜織物膜基結合力與其表面鈦膜的耐磨性密切相關，鈦膜耐磨性越好，膜基結合就越牢固。磁控濺射鍍膜玻璃即為離線鍍膜玻璃，是在平板玻璃出廠后，再進行鍍膜加工。合格的鍍膜玻璃不僅要滿足光學透射率、反射率、耐磨性能、抗化學腐蝕性能等理化指標，還要保證產品的色調均勻性。

濺射鍍膜過程主要是將欲沉積成薄膜的材料制成靶材，固定在濺射沉積系統的陰極上，待沉積薄膜的基片放在正對靶面的陽極上。

濺射系統抽至高真空后充入氬氣等，在陰極和陽極之間加載高壓，陰陽極之間會產生低壓輝光放電。

近年來磁控濺射技術發展非常迅速，代表性方法有平衡平衡磁控濺射、反應磁控濺射、中頻磁控濺射及高能脈沖磁控濺射等等。

放電產生的等離子體中，氬氣正離子在電場作用下向陰極移動，與靶材表面碰撞，受碰撞而從靶材表面濺射出的靶材原子稱為濺射原子。

磁控濺射不僅應用于科研及工業領域，已延伸到許多日常生活用品，主要應用在化學氣相沉積制膜困難的薄膜制備。磁控濺射技術在制備電子封裝及光學薄膜方面已有多年，特別是先進的中頻非平衡磁控濺射技術也已在光學薄膜、透明導電玻璃等方面得到應用。

離子束濺射系統

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