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磁控濺射鍍膜系統設備發展至今，在工業方面顯的極為重要，其作用范圍廣泛，徹底的改變了傳統的鍍膜行業。使得鍍膜作業在生產質量方面以及效率方面都得到了較大的提升。那么磁控濺射鍍膜系統設備在工業中有什么優勢呢？
1、沉積(ji)速度快、基材溫升低(di)、對膜層(ceng)的(de)損傷小；
2、對于大部分材料，只(zhi)要能制成耙材，就可以(yi)實(shi)現濺(jian)射；
3、濺(jian)射所(suo)獲得的薄膜與基(ji)片結合較好(hao)；
4、濺射所獲得的薄膜(mo)純度高、致(zhi)密性好、成(cheng)膜(mo)均勻性好；
5、濺射工藝(yi)可重(zhong)復性好，可以(yi)在大面積基片上(shang)獲得厚度均勻的(de)薄(bo)膜；
6、能夠精(jing)準控制鍍層的(de)(de)厚度，同時可(ke)通過改變參數條件控制組成薄膜的(de)(de)顆粒大小；
7、不同的金(jin)屬、合(he)金(jin)、氧化物能夠(gou)進行混合(he)，同時濺射于基(ji)材上；
8、易于(yu)實(shi)現工業(ye)化。
隨著科技的發展，磁控濺射鍍膜系統設備在日常中個方面都有著極大的貢獻，不僅在節能環保方面有著重大的提升，更為重要的是其解放了勞動人民的雙手，讓勞動者徹底的從傳統鍍膜行業中解放。
