設(she)備用途：

單室離子束鍍膜設備系統為高真空多功能離子束沉積系統， 系統可用于開發納米級的單層及多層功能膜和復合膜-可鍍金屬、 合金、 化合物、 半導體、 介質復合膜等。 廣泛應用于大專院校、 科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。

設備(bei)組成：

系(xi)統(tong)主要由沉積室、 考(kao)夫曼濺(jian)射離子源、 考(kao)夫曼清(qing)洗輔助(zhu)離子源、 樣品臺、 樣品加(jia)熱裝(zhuang)置、膜厚監測(ce)(ce)系(xi)統(tong)、 泵抽系(xi)統(tong)、 真空測(ce)(ce)量系(xi)統(tong)、 氣路系(xi)統(tong)、 電控系(xi)統(tong)等組成。

技(ji)術(shu)指標：

1、極限真空度：≤8.0×10-5Pa (經烘烤除氣后(hou))；

2、系統真空檢漏漏率：≤5.0×10-8Pa.L/S；停機12小(xiao)時≤5Pa.

3、系統短(duan)時間暴露大氣(qi)并充干燥(zao)氮(dan)氣(qi)后，再開始抽氣(qi)，45分(fen)鐘(zhong)可達到6.6×10-4Pa；

4、系統(tong)(tong)主要由蒸(zheng)發(fa)真空室、E型電(dian)子槍、熱蒸(zheng)發(fa)電(dian)極、旋轉基片加熱臺(tai)、工作氣路(lu)、抽氣系統(tong)(tong)、真空測量、安裝機(ji)臺(tai)及電(dian)控(kong)系統(tong)(tong)等部分組(zu)成。