設備用途:
高真空電弧熔煉及吸鑄系統用于熔煉高熔點金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校及科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
設備組成:
主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、磁力攪拌、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。
極限真空:8x10-5Pa;
20分(fen)鐘可達到5x10-3Pa;
共5個(ge)工位(wei)(SR35mm):3個(ge)熔(rong)煉(lian)(lian)合金工位(wei)(帶磁攪拌(ban));1個(ge)熔(rong)煉(lian)(lian)除氣工位(wei);1個(ge)吸鑄工位(wei);熔(rong)煉(lian)(lian)樣(yang)品重量(以鐵標定(ding))100克(ke);
分子泵系統:1套;
熔(rong)煉電源(yuan)輸入電流:1250A;
冷卻水路系(xi)統(tong):1套。