磁控濺射是物理氣相堆積的一種,磁控濺射通過在靶陰極外表引入磁場，使用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射工藝在日常操作過程中有哪些常見的毛病呢？

磁控濺射常見毛病(bing)及解決辦法

1.無法起輝

（1）直(zhi)流電源毛病，查(cha)看直(zhi)流電源；

（2）氬(ya)氣(qi)(qi)(qi)進氣(qi)(qi)(qi)量(liang)小，查看氬(ya)氣(qi)(qi)(qi)流量(liang)計或加大氬(ya)氣(qi)(qi)(qi)進氣(qi)(qi)(qi)量(liang)；

（3）真(zhen)空室清(qing)潔度(du)不(bu)行，清(qing)潔真(zhen)空室；

（4）靶(ba)材絕(jue)緣(yuan)度不行，查(cha)看靶(ba)是否與(yu)地(di)短路，在(zai)通水的情(qing)況下，對地(di)電阻應該在(zai) 50kΩ以上；

（5）磁場強度不行，查看(kan)永磁體是(shi)否消磁；

（6）真空度(du)太(tai)差(cha)，查看真空體系(xi)。

2.輝光不穩

（1）電壓電流不穩，查看電源；

（2）真空(kong)室壓力不穩，查看氬氣進氣量及真空(kong)體系；

（3）電纜(lan)毛(mao)病，查看電纜(lan)是否(fou)連接良好。

3.成膜質量(liang)差(cha)

（1）基片(pian)外(wai)表(biao)清潔度差，清潔基片(pian)外(wai)表(biao)；

（2）真空室(shi)清(qing)潔(jie)度差，清(qing)潔(jie)真空室(shi)；

（3）基片(pian)溫度過大(da)或過小，查看溫控體(ti)系(xi)，校準(zhun)熱(re)電偶；

（4）真空室壓(ya)力過大，查(cha)看真空體系；

（5）濺射功率設(she)(she)置不當，查看直(zhi)流電源，設(she)(she)置何事的設(she)(she)定功率。

4.濺射速率(lv)低(di)

（1）氬氣(qi)進(jin)氣(qi)量過(guo)大(da)或(huo)過(guo)小，調查輝光色彩可以判定(ding)氬氣(qi)是(shi)過(guo)大(da)仍是(shi)過(guo)小，據此調整氬氣(qi)進(jin)氣(qi)量；檢修流(liu)量計；

（2）靶材過熱，查看冷卻水流量；

（3）查看永磁體(ti)是否消磁。

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