在使用磁控濺射系統設備的時候，使用通常的濺射方法，發現濺射效率都不是非常的高。為了提高濺射的效率，加快工作的進度。

那么該如何(he)加快(kuai)這種設備的使用(yong)效率(lv)(lv)呢？這就需要增(zeng)加氣體(ti)的理(li)化效率(lv)(lv)。增(zeng)加氣體(ti)的離化效率(lv)(lv)能夠有效的提高濺射(she)的效率(lv)(lv)。

淺析磁控濺射系統設備鍍膜優勢

通常(chang)在(zai)健身過(guo)程中，經(jing)過(guo)加(jia)速(su)的(de)入(ru)射(she)離(li)子(zi)轟擊靶材陰極(ji)(ji)表面的(de)時候，會產生(sheng)電子(zi)發(fa)射(she)，而這些(xie)在(zai)陰極(ji)(ji)表面產生(sheng)的(de)電子(zi)開始(shi)向陽(yang)極(ji)(ji)加(jia)速(su)進入(ru)負(fu)輝光(guang)(guang)區，和中性氣(qi)體原子(zi)進行碰撞，產生(sheng)的(de)自持的(de)輝光(guang)(guang)放(fang)電所(suo)需離(li)子(zi)。電子(zi)在(zai)平(ping)均只(zhi)有程隨著(zhu)電子(zi)能量的(de)加(jia)大而加(jia)大，隨著(zhu)氣(qi)壓的(de)加(jia)大而減小，特別(bie)是在(zai)遠離(li)陰極(ji)(ji)的(de)地方(fang)產生(sheng)，它們的(de)熱壁損(sun)失也是非常(chang)大的(de)，這主(zhu)要是因為其離(li)化效率低。

因此可以加上一平行陰極表面的磁場就能夠將初始電子限制在陰極范圍內，能夠有效的增加氣體原子的梨花效率，從而提高磁控濺射系統設備的濺射效率。

磁(ci)控(kong)(kong)濺射(she)(she)系統設(she)備的(de)(de)穩定性，對(dui)所生(sheng)成(cheng)(cheng)的(de)(de)膜(mo)均勻性、成(cheng)(cheng)膜(mo)質(zhi)量、鍍膜(mo)速率等(deng)(deng)方面(mian)有很大(da)的(de)(de)影響。磁(ci)控(kong)(kong)濺射(she)(she)系統設(she)備的(de)(de)濺射(she)(she)種類有很多，按照(zhao)使用的(de)(de)電源分，能夠分為直流磁(ci)控(kong)(kong)濺射(she)(she)，射(she)(she)頻磁(ci)控(kong)(kong)濺射(she)(she)，中頻磁(ci)控(kong)(kong)濺射(she)(she)等(deng)(deng)等(deng)(deng)。

直流(liu)磁控濺(jian)射所(suo)用(yong)的(de)(de)電(dian)源是直流(liu)高(gao)壓電(dian)源，通(tong)常在300～1000V，特(te)點(dian)是濺(jian)射速(su)率快，造價低(di)，后(hou)期維修(xiu)保養便宜。但是只能濺(jian)射金(jin)屬靶材，如果靶材是絕緣體(ti)，隨(sui)著濺(jian)射的(de)(de)深入，靶材會聚集大量的(de)(de)電(dian)荷，導致濺(jian)射無(wu)法(fa)繼(ji)續。因(yin)此(ci)對于金(jin)屬靶材通(tong)常用(yong)直流(liu)磁控濺(jian)射，由于造價便宜，結構簡(jian)單，目(mu)前(qian)在工業上(shang)應(ying)用(yong)廣泛。

射(she)(she)(she)(she)頻磁(ci)控濺射(she)(she)(she)(she)所用的(de)射(she)(she)(she)(she)頻電源的(de)頻率通常是13.56 MHz，可以解決直(zhi)流磁(ci)控濺射(she)(she)(she)(she)不(bu)能(neng)濺射(she)(she)(she)(she)絕緣(yuan)靶材的(de)問題。射(she)(she)(she)(she)頻磁(ci)控濺射(she)(she)(she)(she)的(de)特點是：絕緣(yuan)靶材和金屬靶材都能(neng)濺射(she)(she)(she)(she)，膜層(ceng)與基片的(de)附著力強(qiang)。但是由(you)于(yu)結構裝(zhuang)置(zhi)比(bi)較復雜(za)，射(she)(she)(she)(she)頻電源價格昂貴，維修維護成本比(bi)較高，會對人體產(chan)生(sheng)輻射(she)(she)(she)(she)，并且需要外部的(de)匹配(pei)網絡等因素，不(bu)適合應用于(yu)工業(ye)生(sheng)產(chan)。

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